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手機攝像頭模組清洗機CMC-800
?CMC-800是手機攝像頭模組專業清洗機，用于手機攝像頭類產品，如wafer，CMOS, Holder等表面微塵清洗。

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手機攝像頭模組清洗機CMC-800

詳情說明

產品介紹

CMC-800是手機攝像頭模組專業清洗機，用于手機攝像頭類產品，如wafer，CMOS, Holder等表面微塵清洗。

產品特點

1、攝像頭類模組類產品表面粉塵，雜質專用清洗機器；
2、鏡面不銹鋼一體化封閉機身，對工作環境無污染，適合無塵車間使用要求；
3、可更換清洗盤清洗多種產品，清洗盤按產品定做；
4、PLC自動控制，操作方便快捷；
5、透明防爆前門，安全作業，便于觀察；
6、全系統儀表顯示，隨時監控清洗狀況；
7、采用二流體清洗，清洗精度高，對產品零損傷，純水消耗量極??；
8、旋轉式噴桿，避免二次污染產品；
9.配備靜電消除裝置、腔壁加熱裝置，輔助清洗達到最佳效果；
10、配備2級空氣過濾系統，壓縮空氣符合ISO8573.1標準；
11、機身緊湊，占用面積??；
12、完全使用超純水清洗，符合RoHS標準。

產品規格

序號	項目	CMC-800規格
1	設備外觀尺寸	880mm（L）×960mm（W）×1880mm（H）
2	清洗盤規格	定制（清洗盤直徑＜?550mm)
3	清洗方式	二流體清洗
4	干燥方式	高速離心甩干
5	電源供應	AC380V 50HZ
6	總功率	7KW
7	耗電量	清洗時: 3.5kw/h
8	傳動馬力	3HP
9	環境過濾方式	0.3μm；99.999%
10	空氣過濾方式	1μm×1；0.01μm×1
11	離心轉速	100-1500RPM
12	純水消耗量	0-7L/Min
13	氣體消耗量	10-30m3/H
14	清洗壓力	液體壓力：3-8Kgf/cm2，空氣壓力：0.2-0.5Mpa
15	DI水供應	流量：＞7LPM 電阻率：＞17MΩ
16	氣源供應	壓力：0.45-0.7Mpa；流量：＞30m3/H（潔凈度符合清洗要求）
17	純水入口徑	?12mm軟管或PT1/2″內螺紋
18	氣源入口徑	?12mm氣管
19	排水出口徑	PT 1″內螺紋
20	排氣口口徑	4″×2（需加強抽風,風速大于3m/sec）
21	機器凈重	450KG

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手機攝像頭模組清洗機CMC-800

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